薄膜 XRF 膜厚及成分分析

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薄膜 XRF 膜厚及成分分析

薄膜 XRF 膜厚及成分分析服務 

X射線螢光光譜分析(XRF)是一種非破壞性的化學分析技術,它可以快速、準確地確定樣品中的元素種類和含量。該技術基於樣品受到X射線照射時,樣品中的原子會被激發,進而發出X射線螢光光譜的原理。X射線螢光光譜分析儀器通常包括X射線發生器、樣品台、X射線螢光計以及能譜分析器等部件。具體操作過程為:將樣品放置在樣品台上,用X射線發生器產生一束高能X射線照射到樣品表面,樣品受到激發後,會放出螢光X射線。這些螢光X射線通過螢光計收集並轉換成電信號,隨後進入能譜分析器進行分析。能譜分析器通過將螢光X射線按能量分離出來,測量它們的強度和能量,從而確定螢光X射線所代表的元素種類和含量。每個元素的螢光X射線能量是固定的,所以通過測量螢光X射線的能量和強度,可以得出樣品中元素的種類和含量信息。X射線螢光光譜分析具有分析速度快、準確度高、無需樣品前處理等優點,被廣泛應用於冶金、礦業、材料科學、環境監測等領域中。

XRF 薄膜分析




 

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  • 統一編號 64899661

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